SZTE Állásbörze 2024.04.23.
A méréstechnika szerepe a mikro- és nanoelektronika gyártásban
A mikroelektronika és a hálózati technológiák legújabb eredményei a modern termelés robbanásszerű átalakulását, az ipar 4.0 kialakulását eredményezték. Az „okos” eszközök egymással hálózati összeköttetéseken keresztül hatékonyan kooperálnak, így termelékenyebb autonóm ipari folyamatok jönnek létre.
Ennek megvalósulásához azonban nemcsak a rendelkezésre álló számítási teljesítményt és a hálózatok adatátviteli sebességét kell megfelelő mértékben bővíteni; számos egyéb innováció is nélkülözhetetlen, az információk begyűjtésétől az adatok feldolgozásáig.
A méréstechnika tudománya mind a K+F+I tevékenységekben, mind a gyártástámogatásban kiemelkedő szerepet tölt be az elektronikus komponensek és rendszerek (ECS) iparának számos területén, továbbá a kiberfizikai rendszerek (CPS) elengedhetetlen része, hiszen ezekben a nagyteljesítményű számítástechnika (HPC) mellett az ipari dolgok internetét (IIoT) alkalmazó szenzorok, virtuális és hagyományos mérési megoldások találhatóak. A méréstechnikával szemben támasztott alapvető követelmény, hogy a termelés során az összes folyamatlépés ellenőrzésére legyen lehetőség. Azonban minden méréstechnika alkalmazása esetén jelentős kompromisszumokat kell kötni a technika érzékenysége és pontossága, valamint a termelékenységi követelmények között.
E kihívásokra igyekszik innovatív fejlesztésekkel megfelelni az Applied Materials cég által vezetett nemzetközi kutatás-fejlesztési konzorcium az ECSEL JU európai szervezet és a Nemzeti Kutatási, Fejlesztési és Innovációs Alap által támogatott „Méréstechnikai fejlesztések az „Ipar 4.0” elektronikus komponensei és rendszerei számára” című projektben. A projekt célja, hogy az Ipar 4.0 számára szükséges mikro- és nanoelektronikai megoldások, valamint adatfeldolgozási (elsődlegesen gépi tanulással és mesterséges intelligenciával támogatott) módszerek terén jelentős előrelépést hozzon.
A projekt egyetlen magyar résztvevője a Semilab Félvezető Fizikai Laboratórium Zrt., amelynek feladata a mikro- és nanoelektronikai gyártás során a szilíciumszelet aktív rétegében keletkező, hagyományos méréstechnológiai eljárásokkal nem érzékelhető hibák detektálására szolgáló rendszer, valamint gépi tanuláson alapuló kiértékelő eljárás fejlesztése.
A kifejlesztett újgenerációs méréstechnikai és ellenőrző rendszerek az IMEC kísérleti gyártósorába integrálva kerülnek tesztelésre.
A projekt a Nemzeti Kutatási, Fejlesztési és Innovációs Alap támogatásával valósul meg, a 2019-2.1.3-NEMZ_ECSEL-2019-00002 számú támogatási szerződés szerint.
Ha érdekelnek további részletek a képdiagnosztikáról, akkor az Állásbörze ideje alatt a Semilab munkatársaitól kérdezni is tudsz.
